MPC超微顆粒除塵機是用于 CMOS 圖像傳感器的全自動定向干式除塵系統。配備高分辨率相機可以識別超微顆粒異物，并引導粘塵機構高精度定向除塵，可去除基板/Sensor上大于700nm的異物。配備高速伺服模組，根據產能可選單/雙工位，最高產能大于5000pcs/h。可輸出報表，生成MAP圖，同時數據可以上傳客戶MES系統。

    

一、MPC超微顆粒除塵機產品功能介紹/Function

    灰塵檢查及清除，DB檢測

        Partical Detection & Cleaning

二、MPC超微顆粒除塵機應用行業/Application

    半導體(光學模組, Wafer)
        Semiconductor(Optical Module, Wafer)

    封測行業(Sensor、R片、IC封測、指紋模組)
        Semiconductor Packaging and Testing(Sensor, IR Filter, IC Testing, Fingerprint Module)

三、MPC超微顆粒除塵機產能效率/UPH

    基準環境：(36pcs/料盤,10%灰塵率)
        Baseline:(36pcs/tray,10% Partical Rate)

    單工位：> 2500pcs/h；雙工位：> 5000pcs/h
        Single Station:> 2500pcs/h; Double Station:> 5000pcs/h

四、MPC超微顆粒除塵機特點/Feature

    自動檢查、準確識別

        Automatic Inspection, Accurate ldentification

    干法清潔，無殘留、無污染
        Dry Cleaning, Residue-Free, No Contamination

五、MPC超微顆粒除塵機性能指標

    檢測精度：>0.6um
        Detection Accuracy:>0.6um

    可動灰塵除去率：>99.9%
        Floating Partical Removal Rate:>99.9%

六、MPC超微顆粒除塵機設備參數/Parameter

    尺寸/Size：W1200mm×D1100mm×H1850mm

    重量/Weight：1000KG

七、MPC超微顆粒除塵機產品介紹

1、MPC超微顆粒除塵機是用于 CMOS 圖像傳感器的全自動定向干式除塵系統。
    The MPC Partical Removal Machine is a fully automatic directional dry partical removal system designed forCMOS image sensors.

2、MPC超微顆粒除塵機配備高分辨率相機可以識別超微顆粒異物，并引導粘塵機構高精度定向除塵，可去除基板/Sensor上大于700nm的異物。
    With a high-resolution camera capable of identifvina ultra-fine particle contaminants. the svstem auides thepartical removal mechanism with high precision to target and remove contaminants larger than 700nm on thesubstrate/sensor.

3、MPC超微顆粒除塵機配備高速伺服模組，根據產能可選單/雙工位，最高產能大于5000pcs/h。
    With high-speed servo modules, the system offers the option of single or dual stations based on productioncapacity, with a maximum throughput exceeding 5000pcs/h.

4、MPC超微顆粒除塵機可輸出報表，生成MAP圖，同時數據可以上傳客戶MES系統。
    The system can generate reports, create MAP diagrams, and upload data to the customer's MES systemsimultaneously.

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